Вид деятельности:
Деятельность лаборатории технологии синтеза полупроводниковых наноматериалов и тонких пленок направлена на решение научно-исследовательских и опытно-конструкторских задач, направленных на разработку и оптимизацию технологии получения наноструктурированных материалов с заданными физическими свойствами на основе широкозонных оксидов и нитридов, а так же многокомпонентных сегнетопьезокерамических материалов различного состава для элементной базы оптоэлектроники, устройств памяти, люминесцентных и светодиодных наноматериалов, систем отображения информации и др.
Приборная база лаборатории:
1. Автоматизированный многофункциональный комплекс для магнетронного нанесения покрытий «ВАТТ АМК-МИ» (ЗАО «Ферри-Ватт», РФ). Технологический комплекс предназначен для решения исследовательских задач по отработке воспроизводимой технологии осаждения тонких пленок с заданными свойствами и осаждения покрытий на подложки больших размеров (до формата А4), по заранее отработанной технологии, что позволяет форсировать промежуточное масштабирование технологии в лабораторных условиях до промышленного уровня.
Система полностью автоматизирована (от стадии загрузки образцов до их выгрузки). В установке использованы современные безмаслянные средства откачки и измерения вакуума и предусмотрена возможность подключения малогабаритных исследовательских вакуумных камер.
Технологический комплекс состоит из двух вакуумных камер: малой и большой. В большой камере расположены 3 линейных магнетрона и один линейный источник ионов, а в малой камере – 4 круглых магнетрона и ионный источник, что позволяет осуществлять финишную очистку подложки перед нанесением слоя и ионно-ассистированного осаждения слоев. Трехканальная система напуска рабочих газов в вакуумную камеру позволяет получать покрытия практически из любых металлов, сплавов, диэлектриков и полупроводниковых материалов.
2. Комплекс установок для выращивания монокристаллов группы A2B6 методом химических транспортных реакций. Данный технологический комплекс предназначен для выращивания монокристаллов группы A
2B
6 методом химических транспортных реакций диаметром до 25 мм. Технологический комплекс позволяет менять режимы роста кристаллов, отрабатывать методики их получения, а также проводить научно-технические исследования, которые приведут к синтезу новых материалов, востребованных в научно-исследовательских организациях.
3. Азотная станция LNP-40 (Criomech, США), позволяющая получать высокочистый жидкий азот объемом до 40 л/день.
4. Оптоволоконный спектрометрический комплекс AvaSpec-ULS2048?64 (Avantes, Нидерланды), предназначенный для проведения качественного/количественного фотометрического анализа в диапазоне длин волн 190-1100 нм со спектральным разрешением лучше 5.0 A.
5. Установка для синтеза и исследования тонких пленок, предназначенная для отработки технологии синтега и получения наноструктурированных материалов с заданными физическими свойствами на основе широкозонных оксидов и нитридов, а так же многокомпонентных сегнетопьезокерамических материалов различного состава с использованием методов катодного и магнетронного распыления.
Технологическая установка сформированан на основе следующих комлпектующих и оборудования:
- вакуумная камера CV (НТС, Тайвань);
- высоковакуумный криогенный насос CryoTorr-8 WC (CTI Cryogenics, США);
- безмасляный форвакуумный насос ISP-500C-SV (Anest Iwata, Япония);
- комплект комплектующих и вспомогательного обрудования (НТС, Тайвань; VAT, Швейцария).
6. Технологическая установка атомно-слоевого осаждения ALDCERAM® ML-200 (США)
Предназначена для создания новых элементов микро- и наноэлектроники с использованием атомно-слоевого осаждения различных элементов, что позволяет разработать новые типы полупроводниковых компонентов для изготовления многослойных конденсаторов, микроэлектромеханических систем (МЭМС), оптических фильтров и т.д. Применяется физико-химический метод нанесения сверхтонких нанопленок из газовой фазы, при этом пленки обладают высокой однородностью и конформностью.
Материально-техническая база:
Лаборатории технологии синтеза полупроводниковых наноматериалов и тонких пленок размещается в четырех лабораторных помещениях общей площадью 112 кв. м., инженерное состояние которых соответствует требованиям, предъявляемым к эксплуатации высокоточного научного оборудования. В частности, лабораторные помещения имеют высокостабилизированное электропитание, раздельное двухконтурное заземление, водопровод, канализация, тепло, кондиционирование, вентиляция, водяное охлаждение, интернет, телефон.
Методики исследования:
- комплекс методик получения наноструктурированных тонких пленок и функциональных нанослоев с заданными физическими свойствами на основе широкозонных оксидов и нитридов, а так же многокомпонентных сегнетопьезокерамических материалов на основе метода магнетронного распыления;
- комплекс методик получения объемных наноструктурированных монокристаллов группы A
2B
6 на основе метода химических транспортных реакций;
комплекс методик регулирования толщины переходного слоя между подложкой и пленкой реконструкцией структуры поверхности подложки нанесением на нее атомов иной природы в виде монослоев (металлы, их оксиды, нитриды);
- комплекс методик воспроизводимого синтеза агрегатов в газовой фазе в широком диапазоне изменения технологических параметров температуры, парциального давления реагентов, состава газовой среды, длины свободного пробега и т.д.
include "footer.php"; ?>